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該系列設備主要集中頻磁控濺射、電弧離子蒸發和離子源及脈沖偏壓結合等技術為一體,實行全自動化控制。此設備廣泛應用于表帶、表殼、手機殼、五金、餐具等工件上鍍制 TiN,TiC,TiCN、TiAIN,CrN,Cu,Au,Al2O3等各種裝飾膜層。
參數說明:
型號 | JTL-1090 | JTL-1110 | JTL-1312 | JTL-1613 |
真空室尺寸 | Φ 1000Χ900mm | Φ 1100Χ1000mm | Φ 1300Χ1200 mm | Φ 1600Χ1300 mm |
鍍膜方式及主要配置 |
3個電弧+平面矩形陰極2對 | 6個電弧+圓柱陰極2對+平面矩形陰極1對 | 6個電弧+圓柱陰極4對+平面矩形陰極1對 | 8個電弧+圓柱陰極8對+平面矩形陰極1對 |
鍍膜種類 |
金屬膜,介質膜,化合物膜,反應膜,多功能層次膜 | |||
電源 |
電弧電源,真空磁控電源,中頻磁控電源,脈沖偏壓電源,離子源電源 | |||
真空室結構 |
立式前(單)開門,后置抽氣系統,雙層水冷 | |||
真空系統組成 |
分子泵(擴散泵)+羅茨泵+機械泵 | |||
極限真空 |
8.0Χ10-4 | |||
抽氣時間 |
大氣抽至3Χ10-3Pa≤15min | |||
工件運動方式 |
公 /自轉,變頻調速 | |||
工件烘烤溫度 |
常溫到 350oC可調可控 | |||
控制方式 |
全自動化控制 PC+PLC/PC+HMI | |||
備注 |
該設備可按客戶產品及特殊工藝要求訂做 |
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